La E400 E est conçue pour polir et planariser un Wafer unique d’un diamètre allant de 1″ à 4″. …
Présentes dans les laboratoires de recherche et les sites de production, les machines ALPSITEC CMP apportent une réponse éprouvée et flexible aux besoins en polissage mécano-chimique, du prototypage à la production industrialisée.
La E400 E est conçue pour polir et planariser un Wafer unique d’un diamètre allant de 1″ à 4″. …
Que vous soyez industriel, chercheur ou universitaire, les solutions ALPSITEC CMP sont avant tout conçues pour vous aider à atteindre…
Quelle que soit la machine de CMP que vous recherchiez, la gamme constituée par Alpsitec a été conçue pour préserver…