E400 E 设备专为直径在 1-4 英寸的单一晶圆片进行抛光和表面平整流程而设计。           详情    

无论您是工业企业、研究院所还是大学，ALPSITEC CMP 解决方案都是为了帮助您实现目标。我们的设备的智能设计将使您用最优 惠的价格获得生产力、可用性和便捷性。 我们的设备声誉极佳，其高度可靠性、使用极简性、操作高速性以及可用性备受客户赞誉。

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